La innovadora planta permitirá ampliar la producción de los equipos litográficos de Canon, lo que ayudará a hacer frente a la escasez de chips a nivel mundial. La construcción de la nueva fábrica, ubicada en la ciudad de Utsunomiya, en la prefectura de Tochigi, comenzará en 2023 y está previsto que entre en funcionamiento en 2025. Se construirá en un espacio de alrededor de 70.000 metros cuadrados en los terrenos de una fábrica ya existente.

El Grupo Canon, en el marco de la Fase VI de su serie de planes de gestión a 5 años "Excellent Global Corporation Plan", tiene como objetivo acelerar la transformación de su cartera corporativa, mejorando la productividad e impulsando nuevos negocios. Como parte de estos esfuerzos, la multinacional está trabajando para expandir su línea de soluciones de sistemas de litografía de semiconductores, uno de sus sectores más estratégicos a día de hoy. Con la nueva instalación de Utsunomiya, la compañía busca duplicar su capacidad de producción en esta área a largo plazo.

Canon a la vanguardia de la fabricación de semiconductores

Canon también está desarrollando una pionera tecnología denominada fotolitografía de nanoimpresión. Esto permite el grabado de circuitos finos a un coste menor que los equipos de litografía existentes. El proceso se simplifica utilizando un método que dibuja circuitos como si fuera un estampado, reduciendo los costes de fabricación. La compañía lidera el desarrollo de esta nueva tecnología, con la participación de las empresas japonesas Kioxia y Dai Nippon Printing.

Cuando la litografía de nanoimpresión se ponga en práctica, Canon espera reducir hasta en un 40% los costes de producción y disminuir en un 90% el consumo de energía en comparación con los métodos tradicionales.